Система плазмохимического осаждения из паровой фазы (PECVD) - линия для разработки и исследований материалов и устройств на основе аморфного, микрокристаллического и протокристаллического кремния.
Мультимагнетронная система распыления обеспечивает контакт к тыльной поверхности и защищает слой a-Si, наносимый в системе PECVD. Целью такого нанесения является обеспечение нормального контакта с тыльной поверхностью и защита слоя a-Si, наносимого в системе PECVD.
Установка для мытья стекла представляет собой горизонтальную конвейерную систему очистки при помощи щеток.
Используется для нанесения разметки P1, P2, P3 и обрезки краев
Зеленый (532 нм) и ИК ( 1064 нм) лазер
Высокоскоростной гальванометр для обрезки краев
Автоматическое выравнивание при помощи камеры наблюдения
Лазер можно настроить для достижения необходимой ширины разметки в диапазоне от 80 до 120 микрон
Изменяемый размер подложки
Нанесение разметки перемещением держателя подложки по X-Y
Солнечные модули необходимо защищать от воздействия окружающей среды, для этого их ламинируют специальным органическим веществом. Использование вакуума во время ламинации помогает удалить все молекулы воздуха, которые в противном случае могут остаться в модуле.
Полный цикл ламинации автоматизирован на нагрев в вакууме, при помощи программируемого логического контроллера с микропроцессором. В человеко-машинном интерфейсе для отображения текущего процесса имеется панель с мнемонической схемой. Автоматическая система также оснащена ручным устройством для управления всей системой в ручном режиме с использованием кнопочных переключателей на передней панели. Система оснащена всеми необходимыми предохранителями для защиты самой системы и оператора.