Кластерные PECVD установки для НАНО Технологий:

• Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его  сплавов, диэлектриков, нитридов металлов, оксидов металлов и других материалов
• Индивидуальная рабочая камера соединена с перегрузочной/изоляционной камерой как и загрузочный шлюз
• Перемещение подложек: Магнитный / Роботизированный манипулятор
• Размер подложек: 100 - 150 мм
• Горизонтальное осаждение
• Источники питания: MF/RF/VHF/MW
• Температура подложки до 1000 °С
• Анализ остаточной атмосферы

 

 

Кластерная PECVD система

 

 

PECVD установки проходного типа для промышленного производства:

• Проходной процесс, вертикальная конфигурация
• Полная автоматизация
• Обработка двух подложек (1100х1400 мм) в камере
• Время такта 3 минуты
• Равномерность напыления +/- 10%
• Уникальная система напуска газа
• Простота в использовании

 

 

 

PECVD установки проходного типа для НИОКР:

• Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов
• Индивидуальная рабочая камера отделенная изоляционной камерой вместе с шлюзами загрузки/выгрузки
• Размер подложки варьируется в зависимости от требований

 

 

 

Перчаточные боксы для применения в органической электронике:

• Камера испарения с источниками для органических материалов
• УФ озоновая очистка
• Нанесение фоторезиста
• Сушка
• Роботизированное нанесение клея
• Нанесение жидкостей и паст
• УФ системы отверждения

 

 

 

Установки RIE/PE

 

Однокамерные установки PECVDс возможностью реактивно-ионного травления

 

Камера с возможностью реактивно-ионного травления